柔軟な懸垂型シリコン薄板を用いた超高感度、高再現性の薄膜応力特性

出典: finemems

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目次

記事

薄膜応力は厳密なMEMS/NEMS設計には欠かせない。本論文で、サブナノメートルの干渉分光法測定機構を併用した最新の微細加工の柔軟な懸垂型薄膜板をナノスケール薄膜での応力や薄膜内の超低応力の検出をするために開発した。15μmシリコン薄膜の部分的な面外曲線を測定することで、ウエハ曲率手法の感度より2桁大きい曲げ感度を実現した。非接触光学機器を全ての変数の検出に用い、さらに境界条件を十分に特性化することで、再現性を1%以上改善した。30nm薄膜内部の、1.5MPaという現存の報告書の中で最小の応力差がこの測定法で解明できた。

文献

Journal of Micromechanics and Microengineering巻-号17-10ページ1923-1930発行年月2007-10 Y.J.Tang, J.Chen, S.S.Wang, Z.H.Li/Peking University, CHN, Y.B.Huang, D.C.Li/Tianjin University, CHN, W.D.Zhang/North University of China, CHN

著者

キーワード

film stress, MEMS/NEMS design, out-of-plane curvature, LPCVD(low -pressure chemical vapor deposition)

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